Kun pyritään auttamaan luomaan nopeammin, paremmin ja halvemmalla valonlähteitä pelimerkkejä, UC San Diego tutkijoiden yhteistyössä Cymer, Inc. kehittävät laser-valonlähteiden seuraavan sukupolven Extreme Ultraviolet Litografia (tason komiteoiden). Tutkijat johtama mekaaninen ja ilmailutekniikan tiedemies Mark Tillack, jättänyt patenttihakemuksen toukokuussa 2008 heidän uusin löytö osoittaa, että enää pulssipituuksilla voi tarjota samanlainen suorituskyky kuin lyhyt pulssipituuksilla.
Tillack ja hänen tiiminsä havaitsi, että käyttämällä pitkä pulssi CO2 laser, jota käytetään tason komiteoiden lähde järjestelmä saataisiin huomattavasti tehokkaampi, yksinkertaisempi ja halvempi verrattuna että lyhyemmältä pulssi. Tutkimushavaintonsa äskettäin julkaistu Applied Physics Letters. Päivän puolijohde yritykset ahkerasti kehittämässä tason komiteoiden johtavana ehdokas seuraavan sukupolven litografia työkaluja tuottaa mikrosirut piirteitä 32 nanometriä tai vähemmän.
Vaikka suurta edistystä on tapahtunut tällä alalla, useita haasteita on edelleen olemassa kustannustehokkaasti kenttään tason komiteoiden suuria määriä valmistus. Nykyään valonlähteen spektrivaste levitetään suoraan laserin läpi naamio kiekkojen. On tason komiteoiden, laseria käytetään tuottamaan äärimmäisen UV-valoa, joka on lähetetty maskin ja sitten kiekkojen. Tämä epäsuora menetelmä on tehoton, ja saattaa edellyttää erittäin suuri ja erittäin kallis laser lähde, Tillack sanoi.
CO2 laserit, jota käytämme meidän lab, on kaksi etua ne ovat luonnostaan halvempia rakentaa ja käyttää, ja ne antavat paremman hyötysuhde välillä laser EUV valoa, (https://www.china-computer-accessories.com/osta-valo% 252C /) hän sanoi. Meidän löytö että pitkän pulsseja toimivat tarpeeksi hyvin sitä, että CO2-laser-järjestelmä voidaan rakentaa ja käyttää halvemmalla. Tillack viittasi mahdollisten tulevien hakemusten tason komiteoiden, kuten flash-muistipiirien, josta tulee tiheämpi ja tiheämpi.
Kuvitella